光学镀膜腔体加工类型

光学镀膜腔体加工类型

真空腔体厂家的光学镀膜腔体由薄膜层组合而成,通过产生干扰效应进而提高光学系统内的反射性能或者透射率.光学镀膜的性能取决于不同的层接口,层数和个别层的厚度折射率.精密光学的比较常见镀膜类型有:过滤光片膜、分光镜膜、高反射膜和增透膜(AR).

光学镀膜腔体由薄膜层组合而成,通过产生干扰效应进而提高光学系统内的反射性能或者透射率.

增透膜是在高折射率的光学中用于较大化光通量和降低鬼影.高反射膜的设计可在范围较大的整个波长或者单个波长中以较大程度反射.分光镜膜将入射光分为已知的透射光和反射光输出.滤光片应用于大量的工业应用中,并以特定波长用于透射、反射、吸收或衰减光.

阳极层离子源是在一条环形窄缝中施加磁场,在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件.阳极层离子源可以做得很大很长,特别适合镀大工件,如建筑玻璃.阳极层离子源离子电流也较大.但其离子流较发散,且能级分布太宽.一般用于大型工件,玻璃,装饰工件.应用于光学镀膜不是很多. 

离子源可以增强基体和膜的结合强度,膜本身的耐磨耐蚀特性与硬度也会改善.离子源的类型虽然多,但是目的无非是在线清洗,调制增加反应气体能量和改善被镀表面能量分布.如果镀工具耐磨层,厚度较大对膜厚均匀性要求不高的情况下,可采用离子电流较大能级也较高的离子源,如霍尔离子源或阳极层离子源.

霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化.这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束.由于轴向磁场的作用太强,霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流.

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