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在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。真空镀膜中的溅射利用了辉光放电原理,因为有电场的存在,驱动空气中的电子和正离子运动,离子与电子在运动过程中动能量不断增加,与空气分子碰撞就会不断地产生更多的离子与电子,就造成了辉光的持续放电。
但是辉光放电是有限制的,非真空状态或者真空度过低,就是空气中的分子过多,电子与离子频繁与分子碰撞而积聚不起能量而无法电离分子,所以溅射要求在一定的真空压力下才能实现,必须要采用真空腔体。